Dani Clos torna a pujar al podi
Per P. Castillo el 12 juliol 2010, 8:50 a Competició Internacional, GP2

Dani Clos (Racing Engineering) va acabar tercer en la primera cursa de la GP2 d’aquest cap de setmana al circuit de Silverstone, la novena del campionat. Aquesta va ser la quarta vegada que el barcelonà ha acabat fins ara en les posicions d’honor en la segona temporada en aquesta competició. Clos va ser tercer al Circuit de Catalunya, segon al de Mònaco i vencedor a Turquia. El català es manté segon en la classificació general, ara amb 33 punts, 20 menys que Pastor Maldonado (Rapax), el lÃder, i amb quatre d’avantatge respecte a Jules Bianchi (ART Grand Prix).
Aquests van ser precisament els dos pilots que van precedir Clos en la primera cursa del cap de setmana a Silverstone. Maldonado va sorprendre Bianchi en el moment de l’arrencada i no va donar la més mÃnima possibilitat al francès, al qual va distanciar de 10.125 segons en el moment de travessar la lÃnia de meta. Clos, que sortia des del tercer lloc de la graella, tampoc no va tenir problemes per tenir a ratlla Sam Bird (ART Grand Prix), al qual al final va precedir d’1.430 segons. El barcelonà va cedir 19.549 segons a Maldonado, que ahir va sumar la tercera victòria. «Ha sigut una cursa de conservació de pneumà tics, que era l’objectiu principal», va comentar Clos, que avui sortirà des de la tercera fila en la segona cursa. «Sóc optimista, l’objectiu serà anotar més punts», va assenyalar.
Font: Avui | Foto: GP2 MEDIA























4 Feb 2011




Facebook
Twitter
Youtube
Butlletà de Motor.cat
RSS














